Empfänger

Vorhabensthema

NaWoTec GmbH

01. Mar 2007 - 28. Feb 2009

Verbundprojekt: Evaluierung der Nano-Imprint-Technologie für sub 35nm IC (FANTASTIC) - Teilvorhaben: Inspektions- und Reparaturtechnologie für Nano-Imprint-Templates (FKZ: 13N9217)

Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. (FhG)

01. Mar 2007 - 28. Feb 2009

Verbundprojekt: Evaluierung der Nano-Imprint-Technologie für sub 35nm IC (FANTASTIC) - Teilvorhaben: Ultra Low K Resists (FKZ: 13N9218)

Siemens Aktiengesellschaft

01. Mar 2007 - 28. Feb 2010

Organic Magnetic Resistance für Sensoranwendungen - OMR (FKZ: 13N9253)

Leibniz Universität Hannover

01. Mar 2007 - 28. Feb 2010

Verbundprojekt: Metall Gate Elektroden und epitaktische Oxide als Gate-Stacks für zukünftige CMOS-Logik- und Speichergenerationen (MEGA EPOS) - Teilvorhaben: Molekularstrahlepitaxie von SE-Oxiden für sub-32 nm CMOS-Schaltungen (FKZ: 13N9258)

Technische Universität Darmstadt

01. Mar 2007 - 28. Feb 2010

Verbundprojekt: Metall Gate Elektroden und epitaktische Oxide als Gate-Stacks für zukünftige CMOS-Logik- und Speichergenerationen (MEGA EPOS) - Teilvorhaben: Schädigungsarme Prozessintegration von High-K/Metall-Gate-Stacks mittels CMP für sub-32nm CM (FKZ: 13N9259)

Gesellschaft für Angewandte Mikro- und Optoelektronik mit beschränkter Haftung - AMO GmbH

01. Mar 2007 - 28. Feb 2010

Verbundprojekt: Metall Gate Elektroden und epitaktische Oxide als Gate-Stacks für zukünftige CMOS-Logik- und Speichergenerationen (MEGA EPOS) - Teilvorhaben: Integration von Metall-Gates und High-K Oxiden in Demonstratorbauelemente (FKZ: 13N9260)

IHP GmbH - Innovations for High Performance Microelectronics/Institut für innovative Mikroelektronik

01. Mar 2007 - 28. Feb 2010

Verbundprojekt: Metall Gate Elektroden und epitaktische Oxide als Gate-Stacks für zukünftige CMOS-Logik- und Speichergenerationen (MEGA EPOS) - Teilvorhaben: Herstellung und Analyse alternativer dielektrischer Schichten für künftige CMOS-Bauelemente (FKZ: 13N9261)

Forschungsverbund Berlin e.V.

01. Mar 2007 - 28. Feb 2010

Verbundprojekt: Metall Gate Elektroden und epitaktische Oxide als Gate-Stacks für zukünftige CMOS-Logik- und Speichergenerationen - Teilvorhaben: Grundlagenuntersuchungen der MBE-Prozesse (FKZ: 13N9262)

AMD Fab 36 Limited Liability Company & Co. KG

01. Mar 2007 - 28. Feb 2010

Verbundprojekt: Metall Gate Elektroden und epitaktische Oxide als Gate-Stacks für zukünftige CMOS-Logik- und Speichergenerationen (MEGA EPOS)-Teilvorhaben: Messung und Bewertung von elektrischen und zuverlässigkeitsrelevanten Kenndaten und der techno (FKZ: 13N9263)

Technische Universität Carolo-Wilhelmina zu Braunschweig

01. Feb 2007 - 31. Jan 2009

Halbleiter-Nanostrukturen für molekulare Bioelektronik (FKZ: 03X5513)

Albert-Ludwigs-Universität Freiburg

01. Feb 2007 - 31. Jan 2010

Verbundprojekt: Nanotechnologie im Isoliersystem für innovative elektrische Anwendungen (NanoIso) (FKZ: 03X4505G)

Universität Dortmund

01. Feb 2007 - 31. Jan 2010

Verbundprojekt: Nanotechnologie im Isoliersystem für innovative elektrische Anwendungen (FKZ: 03X4505E)

Universität Bayreuth

01. Feb 2007 - 31. Jan 2010

Verbundprojekt: Nanotechnologie im Isoliersystem für innovative elektrische Anwendungen (Nanolso) (FKZ: 03X4505F)

Nanoresins AG

01. Feb 2007 - 31. Jan 2010

Verbundprojekt: Nanotechnologie im Isoliersystem für innovative elektrische Anwendungen - sphärische Nanopartikel für Isoliersysteme (FKZ: 03X4505D)

Leoni Kabel Holding GmbH & Co. KG

01. Feb 2007 - 31. Jan 2010

Verbundprojekt: Nanotechnologie im Isoliersystem für innovative elektrische Anwendungen - NanoIso (FKZ: 03X4505C)