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Lexikon
Abscheidung ionisierter Cluster
Ionenplattierverfahren, bei dem Cluster aus typischerweise mehreren hundert Atomen beim Durchtritt von atomarem Dampf des Beschichtungsmaterials durch eine spezielle Düse kondensieren. Die Cluster werden ionisiert und auf das elektrisch vorgespannte Substrat beschleunigt. Energie der auftreffenden Teilchen läßt sich zwischen 0,1 und 10eV pro Atom sehr gut einstellen. Verfahren gestattet z.B. die Abscheidung heteroepitaktischer Aluminiumschichten auf Silizium.
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